太阳能电池硅片超声波清洗机你们谁听过呢?台超声波清洗设备怎么样呢?

来源：学生作业帮助网 编辑：作业帮 时间：2024/05/10 11:53:20
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这个设备适用于2”-8”基片的半导体清洗工艺中,有效去除硅/晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性.根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元,各部分有独立控制,随意组合；可根据用户要求配置氮气枪、DI水枪、恒温水浴、热台、超声清洗、DI水在线加热装置、DI水电导率测试仪器等.设备结构紧凑,净化占地面积小,造型美观、实用,操作符合人机工程原理.

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